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普拉勒CVD、MOCVD專用氫氣發(fā)生器是普拉勒(南京)儀器科技有限公司供應的產品,該公司是實驗室前處理設備的主要供應商。這款發(fā)生器專為化學氣相沉積(CVD)和金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)技術設計。
基本信息
1.工作原理:主要基于電解水技術。在電解池中,通過施加電壓使水分子分解為氫氣和氧氣。氫氣隨后經過一系列的處理步驟,如氣液分離、干燥和純化,最終獲得高純度的氫氣。這些處理步驟有助于去除氫氣中的雜質和水分,確保氫氣的純度和穩(wěn)定性。
2.技術參數:氫氣純度可達99.999% - 99.99999%,氫氣流量為1L - 17L/min,輸出壓力0 - 80psi(約0.5MPa),壓力穩(wěn)定性0.001MPa,供電電源220V±10%、50HZ,消耗功率8kw(HYDROGEN - 17L),純水需求2MΩ&1L/h,氫氣容積20L(HYDROGEN - 17L),環(huán)境溫度1 - 40℃,相對濕度85%,海拔高度2000米,外形尺寸80x90x100(WxDxHcm)(HYDROGEN - 17L),凈重約200kg(HYDROGEN - 17L)。
產品特點
1. 高純度輸出:能夠穩(wěn)定產生高達99.999%至99.99999%純度的氫氣,確保在薄膜生長過程中不受雜質的影響,從而提高最終產品的質量和性能。采用英國Peculiar的離子膜技術和分子篩耐用干燥劑,以及先進的氫/水分離技術和除濕處理,有效分離并去除氫氣中的水分,保證輸出氫氣的純凈度。
2. 精確的流量和壓力控制:配備高精度的流量和壓力調節(jié)系統,因為在CVD和MOCVD過程中,氫氣的流量和壓力直接影響薄膜的生長速率和均勻性。通過精確控制這些參數,可以優(yōu)化薄膜的性能,滿足不同的應用需求。還集成微電腦控制系統,實時監(jiān)測和調整壓力與流量,保持氫氣輸出的穩(wěn)定性和可靠性。
3. 多重安全性能:考慮到氫氣的易燃性,這類氫氣發(fā)生器設計了多重安全措施,包括泄漏監(jiān)測、自動關閉系統以及防爆構造,確保實驗室和生產環(huán)境的安全。
4. 創(chuàng)新技術應用:通常采用先進技術,如固態(tài)聚合物電解質(SPE)技術,以確保產生高純度的氫氣,同時具備穩(wěn)定的壓力輸出,這對于半導體生產中的清洗、退火、賦活處理以及硅晶片的取向和外延生長調控等關鍵過程至關重要。
5. 環(huán)保與安全設計:采用無堿液電解技術,直接電解純水,減少環(huán)境污染;同時,所有材料選擇均符合高標準環(huán)保要求,確保操作過程的安全。
6. 自動化與易用性:操作過程簡便,同時配備了直觀的用戶界面和自動化控制系統,大大提升了實驗和生產的效率。
應用領域
1. CVD和MOCVD技術:作為還原劑和載氣,在CVD和MOCVD過程中起著至關重要的作用。通過提供高純度的氫氣,確保薄膜生長的純度和質量。
2. 半導體制造:在半導體制造領域具有廣泛的應用,為化學反應提供所需的還原劑或保護氣氛??捎糜谇逑垂杵砻?、去除氧化物和氮化物等雜質,提高薄膜的純度和質量;還可用于半導體生產中的清洗、退火、賦活處理以及硅晶片的取向和外延生長調控等關鍵過程。
3. 其他科研領域:在生物學實驗、物理學研究以及氫能源開發(fā)和燃料電池的研究中也發(fā)揮著重要的作用。
使用與維護
使用前
1)檢查設備:仔細檢查發(fā)生器外觀是否完好,電源連接是否正常,并核對裝箱單上的品名數量是否齊全。同時,確保儀器O?口暢通,加液口蓋子取下以便注液。
2)環(huán)境準備:選擇一個具有良好通風性、遠離熱源、無震動、無陽光直射、無粉塵和腐蝕性氣體的場所放置。環(huán)境溫度應控制在0℃ - 40℃,環(huán)境相對濕度應不超過85%。
3)正確接線與確認參數:確保設備接線正確,電源輸入電壓、電流及氫氣純度、流量等參數符合要求。
使用中
1)禁止私自調整:嚴禁在設備運行中隨意調整安全保護參數,如電流和氫氣流量,并且不應在未經授權的情況下進行機內部件的更換或調整。
2)良好通風與禁止危險操作:確保設備使用區(qū)域通風良好,不得將設備置于爆炸危險環(huán)境中,如靠近火源或易燃物旁。
3)防止氣體泄漏:確保氫氣發(fā)生器輸出口氣管連接正確,防止氫氣泄漏。
4)避免異常工作:在使用過程中,如發(fā)生器出現異常工作情況,須立即停機檢查,并由專業(yè)人員進行問題排查和解決。
使用后
1)檢查輸出口氣管:在供氫前,必須檢查氫氣發(fā)生器輸出口的氣管是否已正確連接。
2)斷開電源前操作:在關閉并斷開電源前,應先拔掉輸出口氣管,避免殘留氫氣造成的安全隱患。
保養(yǎng)和檢修
1)定期維護清潔:為延長設備使用壽命并保持其高效運行,必須定期對氫氣發(fā)生器進行維護保養(yǎng),包括清洗和更換吸附劑等關鍵部件。
2)記錄維護信息:每次維護檢查后,應詳細記錄設備狀態(tài)、檢查人員信息及維護日期,以備后續(xù)查看和故障排查。
常見問題解決方案
1)避免氫氣泄漏的措施:定期檢查設備氣路的密封性,發(fā)現問題及時修復,并使用符合標準要求的設備來運輸和存儲氫氣。
2)保持氫氣純度的方法:嚴格遵守使用規(guī)范,定期更換吸附劑,并使用相同類型和規(guī)格的吸附劑,以確保氫氣的純度。