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1、配制電解液:用500ml蒸餾水溶解,300型為:130g氫氧化鉀,待溶液冷卻后注入液罐,并補(bǔ)充蒸餾水至液位刻度。注液口應(yīng)該要位于儀器頂部,按標(biāo)志取下蓋后馬上進(jìn)行注液。工作時(shí)須保證儀器“O2"口暢通,如果儀器停止工作15天請(qǐng)將電解液抽出。2、將氮?dú)獍l(fā)生器輸出密封帽旋緊,接通電源線,打開(kāi)按鈕開(kāi)關(guān)??諝狻癆ir"工作指示燈呈黃綠色,空氣輸出壓力表指針慢慢上升到0.4Mpa;“H2"系統(tǒng)自動(dòng)啟動(dòng),流量顯示為:280~380ml/min,數(shù)分鐘后,“H2"的流量顯示為“000"或接...
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1.電化學(xué)法制氮在氫氣電解池的陰極(產(chǎn)氫氣一側(cè))通入高壓空氣,在催化劑作用下,氫氣和氧氣形成微觀燃料電池,完成氧化還原反應(yīng)生產(chǎn)水,宏觀上表現(xiàn)即為空氣中的氧氣被除去,剩余氮?dú)狻_@種方法可以產(chǎn)出高99.995%的氮?dú)猓袔讉€(gè)明顯的缺陷:一需用到高濃度氫氧化鉀溶液做電解液,這種強(qiáng)堿溶液與氣體直接接觸,對(duì)氣體質(zhì)量有潛在影響,并有隨氣路輸出的可能性;二單位成本高;三反應(yīng)過(guò)程只去除了空氣中的氧氣,其它雜質(zhì)氣體并沒(méi)有涉及,并且反應(yīng)過(guò)程對(duì)電解池制作技術(shù)要求很高,不合適的電解池制作技術(shù)會(huì)造成...
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一、引言化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,MOCVD)是兩種在半導(dǎo)體制造中廣泛應(yīng)用的薄膜沉積技術(shù)。這兩種技術(shù)都需要使用高純度的氫氣作為反應(yīng)氣體。因此,CVD,MOCVD專(zhuān)用氫氣發(fā)生器的操作對(duì)于保證薄膜質(zhì)量和設(shè)備安全至關(guān)重要。二、儀器簡(jiǎn)介CVD,MOCVD專(zhuān)用氫氣發(fā)生器是一種能夠產(chǎn)生高純度氫氣的設(shè)備,主要用于半導(dǎo)體制造中的CVD和MOCVD過(guò)程。該...
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氮?dú)馐强諝庵畜w積分?jǐn)?shù)Zda的一種惰性氣體,化學(xué)分子式為N2,通常狀態(tài)下無(wú)色無(wú)味,比空氣密度小。氮?dú)饣瘜W(xué)性質(zhì)不活潑,常溫下難與其他物質(zhì)進(jìn)行反應(yīng),因此通常被用作保護(hù)氣體,液氮可用作深度冷凍劑,高純氮?dú)饪捎米魃V等儀器的載氣,氮?dú)獾男再|(zhì)決定了它的用途的廣泛。大流量氮?dú)獍l(fā)生器采用的是電催化方式,其中電解池是操縱燃料電池的逆過(guò)程設(shè)計(jì)而成。由于壓力是不變的,干凈的進(jìn)料空氣送入電解槽,空氣中的氧氣被吸附在陰極電子獲得,生成氫氧根離子和水的影響,并遷移到陽(yáng)極,然后在陽(yáng)極處失電子析出氧氣。只留...
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大流量氫氣發(fā)生器是實(shí)驗(yàn)室用來(lái)制備氫氣的儀器,常溫常壓下,氫氣是一種易燃燒,無(wú)色透明、無(wú)臭無(wú)味的氣體。質(zhì)量只有空氣的1/14,即在0℃時(shí),一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下,密度為0.0899g/L。所以可作為飛艇、氫氣球的填充氣體(由于具有可燃性,安全性不高,飛艇現(xiàn)多用氦氣填充),本氣體是相對(duì)分子質(zhì)量小的物質(zhì),主要用作還原劑。今天咱們來(lái)了解下大流量氫氣發(fā)生器中氫氣的凈化方法:氫氣從電解槽電解出來(lái)之后,都需要經(jīng)過(guò)凈化才能供氣相色譜儀使用,常用的凈化方式主要有以下幾種:1、變壓吸附凈化系統(tǒng)變壓吸附...
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